ALD (Atomic Layer Deposition) für Glove Box
Überblick
ALD (Atomic Layer Deposition)
Beschreibung
- Atomic Layer Deposition (ALD) ist ein Verfahren zur Abscheidung dünner atomarer Schichten;
- ALD ist eine besondere Form der CVD (Chemical Vapour Deposition). Der Hauptunterschied zwischen ALD und generischer CVD besteht in der sequenziellen und nicht gleichzeitigen Einführung der Präkursoren in die Reaktionskammer;
- Obwohl langsamer als andere Techniken, bietet das Verfahren eine bessere Strukturqualität;
- Ermöglicht die Schicht-für-Schicht-Abscheidung von TiO2, Al2O3, SiO2, ZnO, MgO, NiO, SnO2, Nb2O5.
Technische Spezifikationen – Informationen
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Externer Rahmen mit integrierter Glove Box über einen Edelstahlflansch.
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Die ALD kann je nach Modell auf dem Boden, auf der Rückseite oder an einer Seite der Glove Box integriert werden.
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Kompatibel mit den meisten Modellen, die mit einer geeigneten Schnittstelle ausgestattet sind.
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Welche Anwendungen gibt es für Dünnschichtabscheidungstechniken?
Die Bereiche, in denen Dünnschichtabscheidungstechniken am häufigsten eingesetzt werden, sind die Herstellung und Entwicklung von Komponenten für Energiespeicherung und -erhaltung, Halbleiter und Nanotechnologie.
Daher müssen Glove Boxes im Bereich organischer Photovoltaikzellen, Lithiumbatterien, OLEDs oder Sensoren viele Instrumente integrieren, die über einen Flansch angeschlossen werden können. So kann eine dünne Materialschicht, in der Regel mit einer Dicke von wenigen Nanometern, abgeschieden werden, während sie vor Sauerstoff und Feuchtigkeit geschützt ist.
Einige Dünnschichtabscheidungstechniken
Für die Atomlagenabscheidung (ALD) stehen verschiedene Gerätetypen zur Verfügung, darunter:
- Slot-Die-Abscheidungsgeräte, die eine Abscheidung auf großen Substraten ermöglichen;
- Vakuumverdampfungsgeräte, die die Verdampfung eines metallischen oder organischen Materials und die Abscheidung einer dünnen Schicht auf der Oberfläche eines Wafers oder Substrats ermöglichen;
- Inkjet-Druckgeräte für die Abscheidung einer dünnen Schicht funktioneller Flüssigkeiten auf der Oberfläche verschiedener Substrate, die größere Abmessungen erreichen können (dielektrische Tinte, leitfähige Tinte);
- Geräte für die Abscheidung dünner Schichten durch Spincoating, die insbesondere für kleine Substrate oder Wafer mit reduzierter Größe vorgesehen sind.
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Ausstattung und Merkmale
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